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碳酸钙研磨分散剂的种类

作者:分散剂厂家 来源:厚洹化学 时间:2019-04-30 15:10:25 次数:1

常用的​碳酸钙研磨分散剂有三大类。无机类、有机类、高分子类。目前在碳酸钙的超细研磨中普遍采用的是高分子类分散剂。

    常用的碳酸钙研磨分散剂有三大类。无机类(如六偏磷酸钠、二硅酸钠等)、有机类(如烷基苯磺酸盐等)、高分子类(聚羧酸盐、聚丙烯酸衍生物)。目前在碳酸钙的超细研磨中普遍采用的是高分子类分散剂。

    无机类分散剂无机类分散剂的作用机理是通过增加碳酸钙颗粒表面的电荷,增强表面的静电斥力,使粒子在热运动、布朗运动过程中难以进一步靠拢而絮聚。部分无机类分散剂还能够增强颗粒表面的润湿程度。主要有聚磷酸盐(如六偏磷酸钠)、硅酸盐、碳酸盐等,其中以六偏硫酸钠最为常用。但需要注意的是无机分散剂会对导电率、介电常数带来不良影响,也因此使得无机类分散剂的应用尤其是在超细研磨中受到极大的限制。


    有机类小分子分散剂有机类小分子分散剂主要为各种表面活性剂,可分为3类:阴离子型、非离子型和阳离子型。离子型的分散剂主要通过表面电荷的静电斥力作用,非离子型分散剂主要通过空间位阻作用来改善悬浮液的稳定性能,另外此类分散剂在改善碳酸钙颗粒表面润湿性能方面也有很大的作用。常用的有机小分子分散剂主要有烷基聚醚或烷芳基的硫酸盐、烷基吡啶氯化物、烷基酚聚乙烯醚等。

    高分子类分散剂高分子类分散剂的相对分子质量一般在1000-100000,其功能基团一般包含2个部分:一部分为锚固基团,主要通过离子键、共价键、氢键和范德华力等作用以单点或多点锚固的形式紧密地吸附或结合在颗粒表面,常见的锚固基团有—NR3+、—R2、—COOH、—COO-、—SO3H、—SO3-、—PO42-、多元胺、多元醇及聚醚等;另一部分为可被分散介质溶剂化的聚合物链,用于构建空间位阻基团,产生空间位阻,防止碳酸钙颗粒絮聚,常见的空间位阻基团构建聚合物链有聚酯、聚醚、聚烯烃以及聚丙烯酸酯等。

    碳酸钙研磨分散用高分子类分散剂主要有聚羧酸盐、聚丙烯酸衍生物、顺丁烯二酸酐共聚物、缩合萘磺酸盐和非离子型水溶性高分子(聚乙烯吡咯酮、聚醚衍生物等,其中使用最多的是相对分子质量在2000-3000的聚丙烯酸钠分散剂。

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